半导体制程厂区与设备环境 AMC 监测解决方案

方案概述
在人工智能和高效能运算需求的推动下，在第四代半导体材料与芯粒技术的发展下， 芯片线宽已由 70nm 迅速进入 7nm 以下时代。30nm 以下的生产过程中，痕量气态分 子污染物（AMC）检测的重要性，已上升到前所未有的高度。
AMC 监测的痕量精准化、监测全面化、大数据自动分析化，AI 智能管控化理念的引 入，对降低 AMC 造成的良率冲击，起到至关重要的作用。
北京博赛德科技有限公司自主研发生产的 BCT-AMC系列，半导体制程环境监测系统， 涵盖在线监测、实验室分析、机台现场溯源分析等多个场景的，更多有机物物种的精确 全定量分析，分析过程高度自动化与集成化，配合专用的 AMC 污染数据库与处置方案库， 在 AI 技术的加持下，真正解决品管部与微污染控制部的切实问题。
 
典型场景


 
1、制程点 - 在线自动化 AMC（VOCs）精准分析系统

生产监测点布点在线监测：
• 使用超净 PFA 采样管进行厂区布点，监测范围可达 35000m2~75000m2
• 自动采样、浓缩、GC-MS 分析、云端存储、AI 自动生成检测报告，并带有超阈报警功能
• 7×24 小时排程自动化监测
• 全流程全部件惰性化涂覆，避免残留与吸附
• 专利设计的捕集系统与聚焦系统，大幅提升检出线，峰形更锐利
 
2、疑似点 - 实验室 AMC（VOCs）精准分析系统

疑似点手工采样实验室分析：
• 系统用于实验室中，基于捕集能力强、去除杂质能力强、抗吸附能力强、进样精确度高、各气路专用、全流程无冷点、清洗彻底等特点，共同作用，得到更低的检出限
• 未知成分分析定量：系统可对样本进行物质全分析
• 专为半导体企业开发的 AMC（VOCs）物质检测方法包
• 检测时效性强：快速定性定量污染物质，及时发掘 AMC（VOCs）污染源头
 
晶圆石英加热炉，加热挥发进样：
• 专为半导体企业开发的 AMC（VOCs）物质检测方法包
• 检测时效性强：快速定性定量污染物质，及时发掘 AMC（VOCs）污染源头

3、工作台 - 便携式 AMC（VOCs）精准分析系统

工作台 - 污染溯源分析：
• 分析快速
      单质谱走航模式，仪器不经过色谱柱直接进入质谱，秒级分析，实时出具数据。
• 灵敏度高
      针对性溯源，灵敏度更高：单质谱模式，秒级响应，实时动态显示污染情况， 必要时可筛选离子使用 SIM 模式开展针对性走航。
      膜进样技术使得样品进入质谱前可以进行二次富集，提高灵敏度
• 溯源精准
      全新走航模式，深入车间，直指源头
       相对传统走航设备质量更轻、抗震性更强，在传统走航的基础上可进一步进入车间，精准溯源至污染产生工艺点位，帮助企业实现污染点的治理。
• 结果准确
        双重工作模式：走航模式 +GC-MS 定点分析模式
        使用 70eV EI 源 + 四级杆质谱定性定量，充分电离空气中的 VOCs，依托标准 NIST 谱库，准确定性；国标加持，结果与实验室可比。
• 环境适用性强
     非机械泵真空系统，环境适用性更强
     摒弃高速旋转组件，采用非机械真空泵，解决多维大幅振动中无法运行检测等问题。
数据结果与检测谱图

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